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半导体集成电路

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简介

PicoMaster光刻机,,,,,,,可以在高比照度的正胶上加工出小于300纳米区分率的特征结构。。。。。。。
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要求和效果

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图1:200纳米间距的沟槽结构,,,,,,,深度约880nm
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图2:差池称光栅结构。。。。。。。结构1:L218P535;;;;;;;结构2:L278P635
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样品展示

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简介

PicoMaster 系统支持顶侧瞄准。。。。。。。在Simax特有的轻盈型光学模组中集成有520万像素的单色摄像头,,,,,,,丈量区分率100纳米。。。。。。。 最终的瞄准误差不但取决于丈量区分率,,,,,,,也取决于瞄准标记的质量、温度的稳固性,,,,,,,以及系统的校正。。。。。。。
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要求和效果

瞄准误差可以小于250纳米,,,,,,,可是必需知足一定的丈量要求:
? 准确的系统校正
? 系统和基底的温度的稳固性
? 高质量的瞄准标记,,,,,,,最小尺寸50微米
? 第一层的瞄准标识同样是由PicoMaster 系统加工
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使用游标尺结构举行顶侧瞄准测试,,,,,,,瞄准精度小于100纳米
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