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地点：上海市松江区泗砖南路255弄130号
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product center
系统使用405纳米（可升级375纳米）激光源在感光层上曝光，，，，，，，不需订购或制作掩模，，，，，，，图案可随用户设计而改变；；；；； ；
系统不使用掩模版，，，，，，，只需在基版上涂胶后用紫外激光聚焦举行曝光，，，，，，，系统的标准作业要领就像点阵打印机一次一行；；；；； ；
激光按设计写入线条举行的曝光，，，，，，，类似激光切割机或绘图仪事情模式，，，，，，，只有单点系统才华举行矢量誊写；；；；； ；
系统使用405纳米激光源，，，，，，，可实现高达300纳米特征尺寸。。。。。。。。
在芯片上制造微纳图形化结构，，，，，，，用于提横跨光效率有着主要作用。。。。。。。。
半导体工艺为获取准确的结构特征，，，，，，，需要严酷管控线宽的宽高比，，，，，，，而高区分率无掩模直写系统可以对格栅举行高精度曝光。。。。。。。。
4095级灰度，，，，，，，全息设计库的开发功效将用户最新设计理念成为现实。。。。。。。。
系统可以通过改变激光的能量输出，，，，，，，举行三维加工菲涅尔透镜及其阵列。。。。。。。。
芯片制造通常需要很是厚的光阻层，，，，，，，而接纳低区分率举行矢量誊写，，，，，，，可以确保电线路槽的平整。。。。。。。。
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